太陽能板廠家-深圳市迪晟能源技術(shù)有限公司，關(guān)于源擴(kuò)散制作工業(yè)生產(chǎn)過程如下:

　　①將擴(kuò)散爐預(yù)先升溫至擴(kuò)散溫度(800～950℃)，通入大流量的氮?dú)?500～30000m/min)，驅(qū)除管道內(nèi)的氣體。如果是新處理的石英管，還要接著通含有POCI,的氮?dú)?500 ～5000mL min)和氧氣(500 ～5000mL/min)，使石英管壁吸收至飽和狀態(tài)。

　　②取出經(jīng)過表面準(zhǔn)備的硅片，裝入石英舟，推入恒溫區(qū)，在大流量的氮?dú)?500～5000mL/min)保護(hù)下預(yù)熱若干分鐘。

　　③通入含有POCI3,的氮?dú)?，氮?dú)饬髁繛?00～3000ml/ min,氧氣流量為 500 ～300ml/ min,通源時間為15 ～60min。

　　④失源(即停止通含有POCl3,的氮?dú)夂脱鯕?，然后通大流量氮?dú)馊舾煞昼?，以?qū)走殘存在管道內(nèi)的源蒸氣。

　　⑤把石英舟拉至擴(kuò)散爐口.降溫若干分鐘后，即可取出擴(kuò)散好的硅片。

　　(3)固態(tài)氮化硼源擴(kuò)散

　　固態(tài)氮化硼源擴(kuò)散通常采用片狀氮化硼作源，在氮?dú)獗Ｗo(hù)下進(jìn)行擴(kuò)散。片狀氮化硼的制作方法有兩種:可用高純氮化硼棒切割成和硅片一樣大小的薄片，也可用粉狀氨化硼沖壓成片。擴(kuò)散前,氮化硼片預(yù)先在擴(kuò)散溫度下通氧氣30min,使氮化硼表面的三氧化二硼與硅發(fā)生反應(yīng)，形成硼硅玻璃沉積在硅表面，硼向硅內(nèi)部擴(kuò)散。擴(kuò)散爐內(nèi)的氮?dú)饬髁枯^低時，可使擴(kuò)散更為均勻。

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